
為什麼在擴充型 AI 資料中心中選擇多模而非單模?

隨著 AI 資料中心持續擴展,光互連設計變得愈來愈重要。關鍵的技術決策之一,是要採用多模或單模光纖架構。
RVi 已選擇專注於用於擴展型 AI 應用的多模 VCSEL 系統。其原因根植於光學物理、可製造性,以及對準容差。

光學物理:étendue 與光耦合
在光學系統設計中,一個稱為 étendue(ε) 的基本概念,用來描述光在面積與角度發散兩方面的「分散程度」。
其遵循守恆定律:
其中:
A = 發光面積
Ω = 發散角
此乘積定義了可從光源有效傳輸到光纖中的光量。
多模光纖
芯徑:~50 μm
數值孔徑(NA):~0.22
較大的 étendue 容量
這使得 VCSEL 發出的絕大部分光都能有效耦合進光纖中。
單模光纖
芯徑:5–9 μm
NA:~0.13
小得多的 étendue 容量

製造與對準容差
在大規模 AI 基礎架構中,可製造性至關重要。
多模系統可實現:
對準容差可達 ±10 μm
可進行被動對準
可擴展的射出成型或玻璃母模透鏡製造
然而,單模系統需要:
±0.5 μm 的對準精度
嚴格的機械控制
更高成本的組裝製程
要在單模系統中達到 >85% 的耦合效率,對準偏差必須幾乎微觀級。

為什麼這對 AI 資料中心很重要
擴展型 AI 架構要求:
高頻寬密度
可靠的光耦合
可量產的製造能力
具成本效益的部署


隨著 AI 資料中心持續擴展,光互連設計變得愈來愈重要。關鍵的技術決策之一,是要採用多模或單模光纖架構。
RVi 已選擇專注於用於擴展型 AI 應用的多模 VCSEL 系統。其原因根植於光學物理、可製造性,以及對準容差。

光學物理:étendue 與光耦合
在光學系統設計中,一個稱為 étendue(ε) 的基本概念,用來描述光在面積與角度發散兩方面的「分散程度」。
其遵循守恆定律:
其中:
A = 發光面積
Ω = 發散角
此乘積定義了可從光源有效傳輸到光纖中的光量。
多模光纖
芯徑:~50 μm
數值孔徑(NA):~0.22
較大的 étendue 容量
這使得 VCSEL 發出的絕大部分光都能有效耦合進光纖中。
單模光纖
芯徑:5–9 μm
NA:~0.13
小得多的 étendue 容量

製造與對準容差
在大規模 AI 基礎架構中,可製造性至關重要。
多模系統可實現:
對準容差可達 ±10 μm
可進行被動對準
可擴展的射出成型或玻璃母模透鏡製造
然而,單模系統需要:
±0.5 μm 的對準精度
嚴格的機械控制
更高成本的組裝製程
要在單模系統中達到 >85% 的耦合效率,對準偏差必須幾乎微觀級。

為什麼這對 AI 資料中心很重要
擴展型 AI 架構要求:
高頻寬密度
可靠的光耦合
可量產的製造能力
具成本效益的部署


